Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Название статьи
- Анодирование алюминия и кремния в плазме несамостоятельного тлеющего разряда
- Авторы
- Бурачевский Юрий Александрович Yury _BYA@mail.ru, доцент, Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Россия, 634050, г. Томск, пр. Ленина, 40. Тел. 8 (3822) 41-33-69
Бурдовицин Виктор Алексеевич , профессор, Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Россия, 634050, г. Томск, пр. Ленина, 40. Тел. 8 (3822) 41-33-69
Окс Ефим Михайлович , профессор, Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Россия, 634050, г. Томск, пр. Ленина, 40. Тел. 8 (3822) 41-33-69
- В разделе
- ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
- Ключевые слова
- оксидирование / тлеющий разряд / кислородная плазма
- Год
- 2011 номер журнала 2 Страницы 23 - 26
- Индекс УДК
- УДК 621.38:533.9
- Код EDN
- Код DOI
- Финансирование
- Тип статьи
- Научная статья
- Аннотация
- Приведены результаты анодирования кремния и алюминия в кислородной плазме. Плазма образована несамостоятельным тлеющим разрядом с полым катодом, для возбуждения которого при давлении кислорода 20 Па применялся электронный пучок. Плотность тока через анодируемый образец не превышала 1,5 мА/см2, а его температура составляла 200-250 ° С. На поверхности алюминия и кремния формировались сплошные бездефектные пленки Al2O3 и SiO2. Скорости роста слоев окислов составили 150-200 нм/ч для Al2O3 и 400-800 нм/ч для SiO2.
- Полный текст статьи
- Для прочтения полного текста необходимо купить статью
- Список цитируемой литературы
-
Hess D. W.//IBM Journal of Research and Development. 1999. V. 43. No. 1/2. P. 127.
Baier-Saip J. A., Avila J. I., Tarrah G., Cabrera A. L., Fuenzalida V., Zarate R. A., Schuller I. K.//Surface and Coating Technology. 2005. V. 2-3. P. 168.
Пархутик В. П., Лабунов В. А. Плазменное анодирование: Физика, техника, применение в микроэлектронике. - Минск: Навука i технiка, 1990.
Burdovitsin V. A., Oks E. M.//Laser and particle beams. 2008. V. 26. P. 619.
Жирков И. С., Бурдовицин В. А., Окс Е. М.//ЖТФ. 2007. Т. 77. Вып. 9. С. 115.
Burachevsky Yu. A., Burdovitsin V. A., Medovnik A. V., Goreev A. K., Oks E. M., Zhirkov I. S.//9-th International Conference on Electron Beam Technologies. 1-4 June, 2009. Varna, Bulgaria// Електротехника и Електроника. 2009. No. 5-6. P. 193.
Васильев В. В., Войцеховский А. В., Дудьцев Ф. Н., Земцова Т. А., Парм И. О., Соловьев А. П.//Прикладная физика. 2007. № 5. С. 62.
Kuzik L. A., Yakovlev V. A.//Thin Solid Films. 1999. No. 340. P. 288.
- Купить
- 100.00 руб
